Zirconium Oxide ZrO₂ | Hafnium Oxide HfO₂ 99.9% Featured Image

Аксід цырконія ZrO₂ |Аксід гафнію HfO₂ 99,9%

Апісанне

Аксід цырконія ZrO₂або дыяксід цырконія, практычна нерастваральны ў вадзе і слаба растваральны ў HCl і HNO₃, тэмпература плаўлення 2700°C, шчыльнасць 5,85 г/см³, гэта крышталь без паху з высокай тэмпературай плаўлення, высокім удзельным супраціўленнем, высокім паказчыкам праламлення і нізкім каэфіцыентам цеплавога пашырэння, які з'яўляецца важнымі матэрыяламі, устойлівымі да высокіх тэмператур, керамічнымі ізаляцыйнымі матэрыяламі, керамічнымі сонцаахоўнымі сродкамі і сыравінай для штучных каштоўных камянёў.ZrO₂з'яўляецца агульным таварам, які трэба захоўваць у прахалодным, сухім і добра вентыляваным месцы, трымаць кантэйнер шчыльна закрытым і далей ад моцных шчолачаў.Аксід цырконія ZrO₂звычайна выкарыстоўваецца для вытворчасці металічнага цырконія і злучэнняў цырконія, высокачашчыннай керамікі, абразіўных матэрыялаў, керамічных пігментаў, вогнетрывалых матэрыялаў і аптычнага шкла.

Дастаўка

Аксід цырконія або дыяксід цырконія ZrO₂з чысцінёй ZrO₂+HfO₂≥ 99,9% і аксід гафнію HfO₂з чысцінёй HfO₂+ZrO₂≥99,9% у Western Minmetals (SC) Corporation можа пастаўляцца ў парашку памерам 60-150 меш, 25 кг у поліэтыленавым пакеце з кардонным барабанам звонку або ў адпаведнасці з індывідуальнымі характарыстыкамі.

Запыт зараз

Дэталі

Тэгі

Тэхнічныя характарыстыкі

ZrO₂& HfO₂

Аксід цырконія або дыяксід цырконія ZrO₂ з чысцінёй ZrO₂+HfO₂≥ 99,9% і аксід гафнію HfO₂з чысцінёй HfO₂+ZrO₂≥99,9% у Western Minmetals (SC) Corporation можа пастаўляцца ў парашку памерам 60-150 меш, 25 кг у поліэтыленавым пакеце з кардонным барабанам звонку або ў адпаведнасці з індывідуальнымі характарыстыкамі.

Прадметы	HfO₂	ZrO₂
Знешні выгляд	Белы парашок	Белы парашок
Малекулярная маса	210,49	123,22
Шчыльнасць	9,68 г/см³	5,85 г/см³
Тэмпература плаўлення	2758 °C	2700 °C
нумар CAS	12055-23-1	1314-23-4

няма	Пункт			Стандартная спецыфікацыя
1	Чысціня			Прымешкі (PCT Max кожны)	Памер
2	ZrO2	ZrO₂+HfO₂≥	99,9%	Si 0,01, Fe 0,001, Ti/Na 0,002, U/Th 0,005	60-150 меш
3	HfO2	HfO₂+ZrO₂≥	99,9%	Fe/Si 0,002, Mg/Pb/Mo 0,001, Ca/Al/Ni 0,003, Ti 0,007, Cr 0,005	100 меш
4	Ўпакоўка			25 кг у поліэтыленавым пакеце з кардонным барабанам звонку

Аксід гафнію HfO₂, або дыяксід гафнію, злучэнне гафнію, HfO₂+ZrO₂≥99,9%, тэмпература плаўлення 2758°C, шчыльнасць 9,68 г/см³, не раствараецца ў вадзе, HCl і HNO₃, але растваральны ў H₂SO₄і ВЧ.Аксід гафнію HfO₂гэта керамічны матэрыял з шырокай забароненай зонай і высокай дыэлектрычнай пранікальнасцю.Аксід гафнію HfO₂з найбольшай доляй верагоднасці заменіць ізалятар засаўкі дыяксід металааксіднай паўправадніковай палявой трубкі для вырашэння праблемы абмежавання памеру пры распрацоўцы традыцыйнай структуры SiO₂/Si у MOSFET, таму гэта перадавы матэрыял, які выкарыстоўваецца ў галіне мікраэлектронікі.Ён таксама шырока выкарыстоўваецца для вырабу металічнага гафнію, злучэнняў гафнію, вогнетрывалых матэрыялаў, антырадыеактыўных пакрыццяў і каталізатараў.